膜厚仪EH100-X 价格：元

EH100-X膜厚仪是应用于工业和科研领域中薄膜厚度常规测量的经济型解决方案，仪器一键操作极其简单，可测量从几纳米到数百微米厚的透明或半透明薄膜，一次测量1秒内完成。 EH100-X膜厚仪基于白光干涉反射光谱的测量原理。宽光谱光波0°垂直入射到样品表面，在样品基底和膜层之间发生干涉，反射光波由高灵敏度光谱阵列探测单元接收，采用专用软件对光波的光谱反射率进行分析，得到样品镀层的膜厚信息。进一步，还可以通过分析得到膜层的其它物理信息（如，折射率、消光系数）。 仪器适合于工业和科研中的常规测量，可应用于多种薄膜镀层工艺中，如化学机械抛光、化学气象沉积、物理气相沉积、旋涂成膜工艺等。

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