仪器选购指南

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椭偏仪选购指南
发布者:量拓科技     发布时间:2012-11-21 13:27:00    浏览次数:8681 次
光谱椭偏仪
    测量单层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率nλ)、消光系数kλ)、介电函数ελ
    测量多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率nλ)、消光系数kλ)、介电函数ελ
    测量块状材料的折射率nλ)和消光系数kλ
    测量波片的位相延迟差
    测量材料的带隙
    测量纳米样品表面纳米级的微粗糙度
    测量纳米薄膜样品交界面形成的新混合膜层的膜厚、各组分比例
    测量纳米薄膜的结晶度
    测量纳米薄膜的物性不均一分布(如折射率梯度分布等)
    测量各向异性的纳米薄膜
类型
系列
型号
光谱范围
测量速度
备注
R&D
科研级
ES系列
快速摄谱型
245-1000 nm
典型10s/全光谱
自动多入射角
370-1000nm
典型10s/全光谱
245-1000 nm
典型10s/全光谱
手动多入射角
370-1000nm
典型10s/全光谱
245-1000nm
典型10s/全光谱
固定入射角度
370-1000nm
典型10s/全光谱
 
ESS系列
波长扫描型
245-1700nm
典型0.6s/波长
自动多入射角
370-1700nm
典型0.6s/波长
245-1700nm
典型0.6s/波长
手动多入射角
370-1700nm
典型0.6s/波长
光伏
专用
ES-PV系列
快速摄谱型
240-930nm
典型10s/全光谱
自动多入射角
 
激光椭偏仪
    测量单层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率nλ)、消光系数kλ)、介电函数ελ
 
    测量多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率nλ)、消光系数kλ)、介电函数ελ
 
    测量块状材料的折射率nλ)和消光系数kλ
 
    测量波片的位相延迟差
 
类型
型号
膜厚精度
折射率精度
测量速度
备注
 
R&D
科研级
0.01 nm
0.0001
典型0.6 s
桌面台式
多入射角度
 
0.2 nm
0.002
典型1.6 s
 
EM13 LD
0.5 nm
0.005
典型3.0 s
 
0.01 nm
0.0001
典型0.2 s
 
光伏专用
0.01 nm
0.0001
典型0.6 s
 
0.2 nm
0.002
典型1.6 s
 
0.05 nm
0.0005
典型1.1 s
 
 
在线椭偏仪系统
    在线快速测量
    测量单层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率nλ)、消光系数kλ)、介电函数ελ
    测量多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率nλ)、消光系数kλ)、介电函数ελ
    测量块状材料的折射率nλ)和消光系数kλ
类型
型号
膜厚精度
折射率精度
速度
在线式
0.05nm
0.005
典型6.0s-4.0s
在线式
0.05nm
0.005
典型6.0s-4.0s
镀膜机内
0.01nm
0.005
典型0.2s-0.6s
 
教学椭偏仪
► 经典消光法椭偏测量原理
► 方便安全的样品水平放置方式
► 高稳定性光源
► 丰富实用的样品测量功能
便捷的自动化操作
安全的用户使用权限管理
可扩展的仪器功能
紧凑的一体化结构
 测量波片的位相延迟差
类型
型号
光源
允许样品尺寸
教学型
半导体激光器,波长635nm
圆形样品直径Φ120mm,矩形样品可达120mm x 160mm
He-Ne激光器,波长632.8nm
样品直径可达Φ160mm
He-Ne激光器,波长632.8nm
样品直径可达Φ80mm

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